선형 플롯 개요

1. 워크스페이스로 이동하세요.
2. 선형 플롯을 전역적으로 추가하려면 패널 검색 필드 근처의 제어 막대에서 Add panels를 클릭하세요. 대신 섹션에 직접 선형 플롯을 추가하려면 해당 섹션의 액션 () 메뉴를 클릭한 다음 + Add panels를 클릭하세요.
3. 빠른 패널 빌더를 클릭한 다음 다중 메트릭 패널 탭을 클릭하세요.
4. Regex에 Google의 RE2 형식의 표현식을 입력하세요. 입력하는 동안 UI가 업데이트되어 표현식과 일치하는 메트릭을 표시합니다. 기본적으로 플롯 이름에는 플롯에 사용된 정규 표현식이 표시됩니다. 플롯에는 향후 로깅될 메트릭을 포함하여 표현식과 일치하는 모든 메트릭의 선이 포함됩니다.
5. 다중 메트릭 플롯을 생성할 때 중복된 단일 메트릭 패널을 제거하려면 Clean up auto-generated panels를 켜세요(선택 사항). 미리보기에서 정리될 패널을 확인할 수 있습니다.
   이 옵션을 켜면 W&B는 표현식과 일치하는 메트릭이 새로 로깅되어도 단일 메트릭 플롯을 생성하지 않습니다. 대신 해당 메트릭은 이 다중 메트릭 플롯에만 표시됩니다.
6. Create [NUMBER] panels를 클릭하세요.

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다중 메트릭 정규 표현식

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일반적인 사용 사례

with wandb.init(project="multi-layer-model") as run:
    for step in range(100):
        run.log({
            "layer_0_loss": loss_0,
            "layer_1_loss": loss_1,
            "layer_2_loss": loss_2,
            "step": step
        })

• train_.*는 train_loss, train_accuracy, train_f1_score와 같은 모든 트레이닝 메트릭과 일치합니다.
• .*_accuracy는 train_accuracy, val_accuracy, test_accuracy와 같이 서로 다른 데이터셋의 정확도 메트릭과 일치합니다.

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캡처 그룹

• 캡처 그룹은 여러 패널을 생성합니다 정규 표현식에 캡처 그룹을 이루는 괄호가 있으면, UI는 해당 그룹이 캡처한 고유한 값마다 별도의 패널을 생성합니다. 예를 들어 표현식 (layer_0|layer_10)_loss에는 캡처 그룹이 포함되어 있으므로 다음과 같이 두 개의 패널이 따로 생성됩니다.
  1. layer_0과 일치하는 메트릭을 표시하는 패널
  2. layer_10과 일치하는 메트릭을 표시하는 패널
• 비캡처 그룹은 메트릭을 한 패널에 모아 표시합니다 패널을 따로 만들지 않고 여러 대안 중 하나와 일치시키려면 ?: 구문으로 비캡처 그룹을 사용하세요. 표현식 (?:layer_0|layer_10)_loss는 앞의 예시와 동일한 메트릭과 일치하지만, 이를 하나의 패널에 함께 표시합니다.

• (layer_0|layer_10)_loss - 레이어별로 하나씩, 총 두 개의 패널을 생성합니다.
• (?:layer_0|layer_10)_loss - 두 레이어를 함께 표시하는 패널 하나를 생성합니다.

1. 워크스페이스로 이동하세요.
2. 설정을 수정하려는 패널 위에 마우스를 올리세요.
3. 나타나는 연필 아이콘을 선택하세요.
4. 범례 탭을 선택하세요.